NI PXI矢网络，降低半导体和移动设备降低测试成本

2012年12月－ 美国国家仪器公司（National Instruments, 简称NI）近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA，它经进一步优化，可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求，而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构，频率范围为300 kHz至8.5 GHz，拥有独立调整的源代码和源接入循环，可适用于众多不同的测量应用。

“NI在射频和微波仪器上持续大力投入，将PXI的应用领域扩大至高端应用。”NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示，“NI PXIe-5632矢量网络分析仪功能丰富，可显着降低网络测量成本，尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。”

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产品特征

· 双端口，3槽PXI Express矢量网络分析仪，频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。

· 功率范围较宽，为-30dBm到+15 dBm，调节步长为0.01dB，用于测量有源设备的压缩和S-参数。

· 带有源接入循环的双源架构，可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。

· 频偏功能使用独立调整的源代码，实现对频率转换器件和热S-参数的测量。

· 通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口，可简化编程并加快测试开发速度，同时保证射频测量质量。

关于NI

自1976年以来，美国国家仪器，简称NI(www.ni.com）一直致力于为工程师和科学家提供各种工具来提高效率、加速创新和探索。NI的图形化系统设计方法为工程界提供了集成式的软硬件平台,有助于加速测量和控制系统的开发。长期以来，NI一直期望并努力通过自身的技术来改善社会的发展，确保客户、员工、供应商及股东获得成功。