电阻工艺模型问题
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工艺厂一般提供电阻的模型会有typical，fast，slow三种，但是这三种里面包括所有类型的电阻，也就是说所有电阻会一起偏大，一起偏小。但是实际上做有的类型的电阻会偏小，有的类型的电阻会偏大，这个是工艺的问题还是本身就是这样?
如果是这样的话，那仿真模型岂不是不准?
如果是这样的话，那仿真模型岂不是不准?
存在这个问题。但应尽可能少的使用电阻类型，一般只用到高阻poly(高方块)和普通n或p型poly（低方块）。IO处要求不是那么精确，不予以严格要求，偏就偏点，无所谓。
如果我用这种方式产生一个电压源： V=（VREF/RNWELL）*HPOLY_1K，如果一个偏大，一个偏小，那不是V会偏差的很离谱。但是仿真确验证不了啊。
像你说的这种电路，必须用同一种电阻，且交叉匹配，通过比值基本上能够完全消除偏差。
需要匹配的电阻一定要做成相同类型，最好用宽长比都一样的单位电阻串并联实现比例。
这个时候你需要蒙特卡洛仿真来验证你的设计。你说的这个属于是失配问题。不光是电阻，mos也会出现一个往大偏，一个往小偏的问题。
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