关于 SH的下极板采样技术的问题
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之前看书看到,SH中使用下极板采样,运放输入端的寄生电容小,提高速度和精度,即“下极板采样技术”但有的文章说(http://hi.baidu.com/jerome_cool/item/a80a09caa5961a18b67a24bd),一种特殊的下极板采样技术,与Vcm相连的开关提前在与vin相连的开关关断,电荷注入仅仅引入offset。
两种方法的原理都理解,但是现在很纳闷,下极板采样技术部就是Vin通过开关与MOS cap的下极板相连吗? 上面说的非交叠时钟的开关关断为什么也叫下极板采样技术呢?
难道这种抑制电荷注入的技术只能在下极板采样结构用?
CMOS开关为什么作为下极板开关的时候,匹配性较差?
跪求大家的指点
两种方法的原理都理解,但是现在很纳闷,下极板采样技术部就是Vin通过开关与MOS cap的下极板相连吗? 上面说的非交叠时钟的开关关断为什么也叫下极板采样技术呢?
难道这种抑制电荷注入的技术只能在下极板采样结构用?
CMOS开关为什么作为下极板开关的时候,匹配性较差?
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你后边说的原理是Cs接Vcm先断,使Cs右侧(op输入节点)悬空,从Cs进入悬空那一刻开始,Cs左侧无法给Cs继续充电,采样过程到此为止,同理,Cs左侧的电荷注入亦无法充电进入Cs。
这个技术不知为啥命名为下极板采样技术。估计是命名失误而已
这种抑制电荷注入的技术不是只能在下极板采样结构用。跟哪个极板没任何关系
同问啊,有没有大神能够说明白点?
我说说我的理解。
从CMOS工艺中电容的实现来说,一般是电容的下极板的寄生电容(下极板和衬底形成一个较大的结电容)比较大。而大的寄生电容会引入大的沟道电荷注入。所以采样端或者运放的输出端接电容的下极板,而运放的输入端接电容的上极板,这样就运放的输入端对地的寄生电容就尽可能的小,这种方法通常大家叫做“下极板采样”。
而小编说的第二种,通过增加一个开关,利用时钟控制和运放输入端相连的开关提前断开,当采样端的开关断开时,利用电容一端是悬空的,没有电荷的泄放回路,抑制了沟道电荷注入,提到了采样的精度。
这种技术大家也通常叫做“下极板采样”。但是这种叫法会引入混乱。
即小编的疑问:“难道这种抑制电荷注入的技术只能在下极板采样结构用?”
赞同3楼的说法,和那个极板没有关系。
楼上的回复非常正确
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