SN/SP 掩模版
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很多工艺里面SN/SP 互为反版关系，请问SN/SP实际制造过程中是需要两块光刻板还是只有一块光刻板而采用正反光刻胶?
没人知道?
是N+ P+注入吗?那是两个不同层次，要两块mask
既然是反版，为啥不用一块版，然后正负胶?
首先，它们不是反版的关系吧。
其次，就算是反版关系，实际生产中只用到一种光刻胶，另一种在工艺不断缩小的过程中已经被淘汰了。
所以，一定是用两层mask
多谢！CSMC 0.5um 似乎是反版关系，当然这只是版图上，实际生成掩膜版可能会有一些调整。 查了下，确实负胶现在不怎么用，分辨率不够。
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