请大神求教关于电流镜L不同的问题
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从拉扎维的书中可以知道电流镜的L应该是相同的，可是为什么国外芯片的版图中有的L不同呢?请大神指导下，谢谢了
你说的可能是cascode管
可以减小mismatch
只要不是特殊需求，L的变化可以看做和w一样的原理，L变比较省面积，另外，国外还有不成比例的，照样在用，人家工艺就是这么任性~
L不同会牺牲什么?能得到什么?在相应的电路中你在意什么?不在意什么?
L不同阈值电压不同，镜像不准。有时候不需要很准，就可以用。
w/l=2/0.5 的 MATCH 会比 2/5 差..
一般来说 L 大 -> MATCH 会好些
至於没成 RATION , 可能 多数电流无法刚好 RATION 或是省 AREA
2/0.5 M=2 如果硬要分 1/4 => 2/2*1
至於 CASCODE 上下两级 l 会不同,
还有一个是设计错,
因为有些CIRCUIT 可能换 PROCESS ..电路改时漏改到, 但是 CURRENT MIRROR
如果是 OPERATION BIAS .其实那都还好拉 .
对啊，cascode的共源管L变为原来的两倍，仿真发现阈值电压确实不太一样，感觉这样镜像的不准确了
L增大是会减小失配，可是电流镜像的不准确，不是增大了mismatch?
恩，以前提版图也遇到过W、L都不一样的，那国外的设计不会没有章法吧
额，感觉这样镜像的不准确啊，不知道人家设计的时候有没有什么玄机
感觉电流镜像肯定减小失配啊
应该不会是漏改吧
有时候不需要很准确。
对匹配要求不高吧
好像没有得到想要的答案。
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