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关于latch-up问题

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比较两种工艺:N-sub的P阱CMOS工艺,P-sub的N阱CMOS工艺哪一种工艺更容易出现Latch-up效应,给出理由.
小弟也考虑过,分别从寄生的PNP和NPN 的电流增益和两个寄生三极管BE结并联的电阻,但感觉似是而非,不太确定,还望论坛大神求助。

现在基本没有NSUB的工艺,因为无法接地


现代工艺都是有外延的,ESD不那么容易了

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