首页 > 微波/射频 > RFIC设计学习交流 > momentum如何设置VIA

momentum如何设置VIA

录入:edatop.com    阅读:
各位,神人。我现在在用momentum设计transformer。在momentum里边定义sub时,遇到两个问题
1、金属层之间要定义via,这个via需要定义电导率。工艺库的文件里边对VIA的参数定义我看不懂,请大家帮我看看
PDK的数据如下
    Film        Valid Width    Rsh Mean/Range      Unit
RC_VIA1    W/S=0.26/0.26         6.4(<20)                  Ω/ct

请问
1、W/S是什么意思?
2、6.4后边的(<20)是什么意思?
3、 Ω/ct中ct是什么意思?
4、通过这些参数我能知道VIA1的电导率么?如果能,该怎么算;如果不能还需要知道什么,怎么算?


2、工艺里边似乎说金属是有一点浸入到介质层的。在momentum中,虽然可以随金属设置“intrude into substrate”,但是似乎没发设置浸入的深入。
    请问,我该如何设置金属呢,设置为sheet,intrude into substrate,还是expand into substrate

申明:网友回复良莠不齐,仅供参考。如需专业解答,请学习本站推出的微波射频专业培训课程

上一篇:关于pll regulator 的psrr问题
下一篇:Advanced Digtial Bang Bang PLL 2015年6月8日 Prof Levantin 已发布

射频和天线工程师培训课程详情>>

  网站地图