N12接3.3V
找工艺厂要aging model,做aging 仿真,一般需要考虑GOI,HCI,NBTI和PBTI效应。
这个电压瞬间击穿可能性还是比较小的,一般是长期的失效。
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不能这么用
低压nmos并不是一定不能用在高压域,但是要仔细检查
保证n12 vgs/vds/vgd都不能有overstress
内部设计基本不太可能,外围ESD设计见过
实际上已经有不少公司在高速ADC的运放里这么做了,ADI,BCM都有产品。BCM的12bit3G的论文上也提到过。这个paper主要是输入对管用core器件,当然高速场合,更多的core器件在IO电压下的应用,远不止论文发的这几篇。只要保证上下电和工作时不超压(实际上即使超压,只要幅度不大,问题也不是很大,只要在spec要求的工作年限内,aging性能仿真没问题就OK啦)
IO接口采用cascode 可以降压 能采用低压器件
不能这么接吧
请问 如何做aging仿真?
请问overstress的标准model的lib文件里有么?
首先是工艺厂要提供model,然后利用Cadence内嵌的relexpert仿真。建议可以在aging仿真之前,先利用cadence内嵌的检查超压的工具,把比较恶劣的超压管子先拣出来。那个工具名字我忘了,好像也是在ADE的simulation一栏当中
今天看了一下,两个工具分别是device check和reliability
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