虚拟机版cadence，修改MOS管参数前与修改后两次曲线总是相同，无法对比
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虚拟机版cadence，spectre仿真时，修改MOS管的一个参数（比如w），
本想对比修改前 与 修改后的曲线，但发现修改参数仿真，plot曲线后，修改参数前的曲线自动更新为了修改参数后的曲线，造成无法对比。
不知道大家有没有碰到过这个问题，求大家赐教，看看会是什么原因?
自已顶一下
将replace模式，改成append了吗?在ADE窗口右下角。
是APPEND模式，就是新的曲线出来以后，旧的曲线总是会自动也更新为新的曲线。导致两根曲线一模一样。
将仿真结果保存在不同的目录下
非常感谢，这种方法，还确实可以解决这个问题。 不过，就是稍微麻烦一点，服务器版的cadence不会出现这种重新仿真后曲线自动更新为新结果的问题，请问这是为什么?是否有什么参数可以设置?
虚拟机跑不动呀，最好还是装个LINUX吧，即使不是服务器
虚拟机装载的是Linux系统哦，cadence是在Linux环境下运行的
是否可以通过一些设置解决这个问题?
小编有CADENCE?可否分享一下
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