请教下:MOS管的衬底这么接是什么意思呢?
阈值电压,寄生电容不一样,这是很基本的问题,你找本模拟集成电路书,或者半导体器件书都有说的
为了减小衬偏效应吧,好好看看Razavi
原装手机监,听器,窃,听器材系列.北京手机监,听器,美国手机窃,听器
有利于匹配, 减小vt等等
看一下razavi
谢谢各位的解答
为什么说“单独做阱”呢?一般而言PMOS本身就是做在N阱中的,这和衬底的接法没啥关系吧
要有两个nwell 啊。一个是连vdd bulk 得,另外一个连source 得
说的是差分对管本来share1个n-well。如果连接到source的话就要用两个n-well。
为了减小衬偏
减小VTH
减小衬偏
另外请注意PBTI 和NBTI.
谢谢各位
学习中。
N阱工艺里用来减小P管的衬偏效应。(单N阱工艺中,NMOS的衬底总是P sub,所以不存在可以减小衬偏的说法)典型的应用是运放的输入差分对。
双阱工艺的话,你接地接源都行!
P阱工艺的话,PMOS接高电位、源都行,NMOS只能接地
N阱工艺的话,NMOS接地、源都行,PMOS只能接高电位
需要深N井工艺支持.可以减少衬偏效应
芯片shizheyangde
你所講的是Body effect......
一般是PMOS接VDD,NMOS接地
消除衬偏效应
谢谢小编的分享了!
18# kyoabc
18# kyoabc
不对吧. 只有N井,\所有NMOS衬底共用,接地. 所以源不是最低电位的怎么能接衬底呢
还是找一本analog 的书好好看看吧
好好看看工艺,看看Deep nwell的作用是什么,有Deep Nwell的存在,NMOS的Bulk端可以独立于衬底,有自己单独的点位。
为什么会增强匹配?
同时减小电源噪声对差分对的影响
打车问一下:P管输入对的衬底到底接在VDD还是源级,什么时候接在源级,什么时候接在VDD,为什么?分别有什么优缺点?(菜鸟提问!)
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