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电源技术创新速递
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宾夕法尼亚州立大学、美国国家标准技术研究所和专业晶圆制造商IQE公司的研究人员公布了一种近击穿空隙隧道场效应晶体管(NBTFET)技术,这种技术可以用来实现可穿戴计算、物联网、可植入电子产品和智能传感器网络中的下一代高速、低功耗应用。
这种器件使用穿通超薄能量势垒的电子隧道技术,可在低电压时提供大电流(图5),在漏源间电压为0.5V时可以达到740?A/?m的驱动电流、700?S/?m的固有射频跨导和19GHz的截止频率。这些成果于华盛顿特区举办的国际电子器件会议上作了展示。
图5:垂直隧道场效应晶体管的横截面图。电子隧道发生在晶体管源极和沟道之间的接口处。(资料来源:Suman Datta/Penn State)。