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4K智能手机面板面临高解析度挑战
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然而，之前的高解析度六代线曝光工具使用800×920mm的光罩，而其最精细的制程小到3.0μmL/S模式，无法更精细了。直到2011年，2.0μmL/S才变得可行。』正因如此，即使产量较少，但大多数高解析度面板仍在使用四代线生产。现在，随着1.5μm曝光技术的开发，NPDDisplaySearch预测，最新的曝光设备最快将于2015年实现量产。
4K行动平面显示关键生产技术
NPDDisplaySearch更指出，对于AMOLED显示器来说，FMMRGB磷光体技术极具挑战性。不过韩国三星(Samsung)已经解决了这个问题，尤其是在画素设计的部分，它们采用体积更大的PenTileRG+BG子画素(Red-Green,Blue-Green)排列技术，而实际上在视觉效果上跟真正的高解析度在视觉上差不多，也看不出跟真正的RGB有多大的视觉差别。因此其他AMOLED面板厂商也纷纷效仿这种方法；但是，三星拥有绝对的专利权，而且其它面板厂商很难将高画素RGBAMOLED显示器量产。
因此NPDDisplaySearch认为，虽然高解析度曝光是一个关键难题，但这也并不足以能够确保解决4K行动面板解析度问题。以AMOLEDPenTile来说，除了光罩法，其他相关的材料和制程也必须配合；要实现高良率的超高解析度面板，同时具有耗电量低、亮度高、成本低的优势，需要优化且成功开发多个设备类型、材料、和制程。
