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高密度PCB(HDI)制造检验标准(下)
6 尺寸要求
本节描述HDI印制板的尺寸精度的特别要求,包括板材、导线、孔等。尺度特性需用带刻度的≥30倍的放大系统作精确的测量和检验。
6.1 板材厚度要求及公差
6.1.1 芯层厚度要求及公差
缺省板材为FR-4覆铜板,其厚度要求及公差要求依据Q/DKBA3178.1《刚性PCB检验标准》。
6.1.2 积层厚度要求及公差
缺省积层介质为65~80um的RCC,压合后平均厚度≥40um,最薄处≥30um。
若设计文件规定积层厚度,其厚度公差依据Q/DKBA3178.1《刚性PCB检验标准》。
6.2 导线公差
导线宽度以线路底部宽度为准。其公差要求如下表所示:
表6.2-1 导线精度要求
线宽 | 公差 |
---|---|
3 mils | ±0.7 mils |
≥4 mils | ± 20% |
6.3 孔径公差
表6.3-1 孔径公差要求
类型 | 孔径公差 | 备注 |
---|---|---|
微孔 | ±0.025mm | 微孔孔径为金属化前直径。如下图 “A” |
机械钻孔式埋孔 | ±0.1mm | 此处“孔径”指成孔孔径 |
其他类型 | 参考Q/DKBA3178.1《刚性PCB检验标准》 |
图6.3-1 微孔孔径示意图
6.4 微孔孔位
微孔允许与Target Pad及Capture Pad相切,但不允许破盘。
图6.4-1 微孔孔位示意图
7 结构完整性要求
结构完整性要求需在热应力(Thermal stress)试验后进行,热应力试验方法:依据IPC-TM-650-2.6.8条件B进行。除非特殊要求,要经过5次热应力后切片。
金相切片的制作要求依照IPC-TM-650-2.1.1或2.1.1.2进行,垂直切片至少检查3个孔。金相切片的观察要求在100X ±5%的放大下进行,评判时在200X ±5%的放大下进行,镀层厚度小于1um时不能用金相切片技术来测量。
7.1 镀层完整性
[1] 金属镀层无裂纹、分离、空洞和污染物;
[2] 微孔底部和Target Pad之间不允许出现未除尽的胶渣或其他杂质。
7.2 介质完整性
测试后无剥离、气泡、分层、软化等现象。
7.3 微孔形貌
[1] 微孔直径应满足:B≥0.5×A
图7.3-1 微孔形貌
(注:A—微孔顶部电镀前直径;B—微孔底部电镀前直径。)
[2] 微孔孔口不允许出现“封口”现象:
图7.3-2 微孔孔口形貌
7.4 积层被蚀厚度要求
若采用Large Windows方式,积层介质在工艺过程中(如Desmear)被蚀厚度H≤10um。
图7.4-1 积层被蚀厚度
7.5 埋孔塞孔要求
埋孔不能有可见空洞,凸、凹现象不能影响介质厚度的要求。
8 其他测试要求
8.1 附着力测试
表8.1-1 附着力测试要求
序号 | 测试目的 | 测试项目 | 测试方法 | 性能指标 | 备注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 绿油附着力 | 胶带测试 | 同《刚性PCB检验标准》 | 同《刚性PCB检验标准》,且不能露铜 | 需关注BGA塞孔区 |
2 | 金属和介质附着力 | 剥离强度(Peel Strength) | IPC-TM-650 2.4.8 | ≥5Pound/inch | |
3 | 微孔盘浮离(Lift lands) | 热应力测试(Thermal Stress) | IPC-TM-650 2.6.8条件B | 5次测试后无盘浮离现象 | |
4 | 表面安装盘和NPTH孔盘附着力 | 拉脱强度测试(Bond Strength) | IPC-TM-650-2.4.21.1 | ≥2kg或2kg/cm2 |
9 电气性能
9.1 电路
绝缘性:线间绝缘电阻大于10MΩ;测试用的网络电压要能提供足够的电流,但不能引起网络间飞弧;最小测试电压≥40V。
9.2 介质耐电压
依照IPC-TM-650-2.5.7进行测试,要求耐压1000VDC,且在导体间没有闪光、火花或击穿。
10 环境要求
10.1 湿热和绝缘电阻试验
依照IPC-TM-650-2.6.3进行测试,经过湿热加压环境后,绝缘电阻≥500MΩ。
10.2 热冲击(Thermal shock)试验
依照IPC-TM-650-2.6.7.2进行测试,默认条件为Test Condition D,温度循环为-55~+125℃,样片的电气性能首先要满足要求;测试结果要求导体电阻变化≤10%。
11 特殊要求
HDI印制板若有其他特殊要求时,如Outgassing、有机污染(Organic contamination)、抗菌(Fungus resistance)、抗振动(Vibration)、机械冲击,则依据IPC-6012进行。
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