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软性电路板基板材料发展趋势
软性电路板基板是由绝缘基材、接着剂及铜导体所组成,当微影制造完线路后,为防止铜线路氧化及保护线路免受环境温湿度之影响,必须在上面加上一层覆盖膜保护(Coverlayer),覆盖膜的组成为绝缘基材及接着剂。软性电路板基板的绝缘基材一般常用为Polyester (PET)、Polyimide (PI)两种材料,其各有优缺点,PET的成本较低,PI的可靠性较高,目前有许多公司正在研发可取代之材料,如Dow Chemical发展之PBO、PIBO与Kuraray公司的LCP等。软性电路板基板一般均有使用接着剂,目前接着剂材料特性之热性质及可靠度较差,因此若能将其接着剂去除将可提高其电气及热性质。另外在覆盖膜材料技术方面,传统是用非感旋光性的材料,在加上此保护膜前,须先利用机械钻孔将其接点、焊垫及导孔预留下来,一般其精密度只能达到0.6~0.8mm之直径,无法应用在承载组件软板上。此导孔直径未来将须达到50μm,若改用感光型覆盖膜时,其分辨率将可提升至100μm 以下。
目前无接着剂软板基材将随产品之长期可靠性之需求增加,及细线化与承载组件之应用,无接着剂软板基材将是未来软板基材的趋势,其主要制程方式有三种:(1)溅镀法 /电镀法(Sputtering/Plating);(2)涂布法(Cast);(3)热压法(Lamination)。三者各有优缺点,其制程方式如下:
一、溅镀法/电镀法:以PI膜为基材,先溅镀上一层薄铜(1μ以下),以微影蚀刻的方式将线路蚀刻出来,再以电镀法在铜线路上电镀,使铜的厚度增加以达到所需厚度,类似电路板之半加成法。
二、涂布法:以铜箔为基材,先涂上一层薄的高阶着性PI树脂,经高温硬化后,再涂上第二层较厚的PI树脂以增加基板刚性,经高温硬化后形成2L,此方式需要涂布两次,制程成本较高,若要降低成本,有两种方式,一种是利用精密涂布技术设计双层同时涂布,将两种不同性质的PI树脂同时涂布在铜箔上,降低制造流程的步骤,另一种是开发单层PI树脂配方取代双层涂布,使其具有接着性及安定性,也可简化制程。
三、热压法:以PI膜为基材先涂上一层薄的热可塑性PI树脂,先经高温硬化,将铜箔放置在已硬化之热可塑性PI树脂上,再利用高温高压将热可塑性PI重新熔融与铜箔压合在一起形成2L。
目前并没有一种制程方式可以满足所有的需求,需要从其设计者的材料选择及厚度要求来决定其制程,如果选择涂布法在成本及性质上可以得到较好的平衡,除了有良好的接着性且导体的选择性大外,基材的厚度也可以很薄,目前双面制程只有少数几家厂商有能力生产,因为其制程较困难,不过在1999年,双面涂布法的2L其产量超过97万平方米。根据TechSearch Internation的统计,由2000年的产量来看三种制程方式所占的比例推估,全球的月产量预估为22万平方米,最常使用的方式为溅镀法。
目前PIC有干膜与液态两种,干膜的优点是无溶剂且制造较容易,但是单位面积成本较高,且较不耐化学药剂,而液态PIC需准备涂布机,但成本较低,适合大量生产的制程。材质上有分Acrylic/Epoxy及PI两种基材,根据TechSearch统计,目前市场占有率以Epoxy系液态PIC最高,超高过70%,且Nippon Polytech/Rogers的占有率最高达44%,其次为Nitto Denko其占有21%的比例,DuPont排名第三占有18%。其中液态PI具有优异的耐热性及绝缘性可应用在高阶IC构装上。
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形抗蚀剂的涂布方法