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新CO2雷射直接铜箔加工技术

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  PCB基板的高密度化取决於层间连接的微小孔和线路之间,而且直接结合电子产品的性能,所以PCB基板的钻孔技术即成为制造PC8基板的主要关键技术之一。笔记型电脑及行动电话等携带式产品是最先采用高密度增层(BUILD Up)基板为基础的高科技消费性屋品。越来越要求低成本、高成品良率及高度能的需要,直接铜箔加工法可以补足现今雷射加工法之缺点,而开始被重视。
  1.雷射钻孔的现状及课题
  低成本、高成品良率、高产能
  在初期阶段所采用的雷射加工法大多是目前为大家所泛用的conformal mask方法(在RCC基材的表面铜箔上,利用化学蚀刻出需要的加工孔径(开铜窗),再以约大於开铜窗孔径的50~100μm的雷射光束来加工),而且也是较适用现有制程上;然而burst(continue Pulse)加工为孔壁很容易变成圆弧状,所以一般都采用cycle(cycle Pulse)加工较适宜。
  因为这样的因素使得加工速度变的较慢。Large window法(在RCC基材的表面铜箔上,利用化学蚀刻出约大於加工孔径100μm的铜窗),此工法的目的是为了解决conformal mask方法的高速化所开发出来的。
  因为可适用高速的burst加工,故现在已经成为生产的主流,而被广泛的应用。封装用基板则是利用高速burst加工,直接在纯树脂材料上加工,所以电镀前的表面处理等的高度技术及管理是必要的,因此也限定在一些特有的基板制造商。
  几乎所有build up基板的BH(blind hole)钻孔都是使用CO2雷射来作成的,使用RCC材质的泛用build up基板,其孔径的主要尺寸约在100~125μm之间,封装相关的基板,其孔径约在100μm以下,最近也有要求在60μm左右的水准。最近FR-4材质的适用性也在继续的增加中。通孔TH(through hole)加工等新的应用要求也有增加中。
  根据CO2雷射试验水准可以钻孔到孔径30μm,而实用的界限约在4O~50um之间。build up基板在压合制程时,固有变形涨缩等现象,etching window和内层Pad的位置偏移会变大。因此,只要内层Pad径一变小,成品率就会下降,所以就会被极小的线宽/线距所限制。
  上述的window etching是同样和线路作成需要光阻涂布、曝光、显影、蚀刻而形成线路之制程,所以制程成本也是另一项课题。

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