请教一个简单的问题
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1。原理上相等的两个多晶硅电阻R1=R2约400OHM,Layout时按照对称的原则布局布线,工艺实现后分别为R1' 和R2',请问:(R1'-R2') / [(R1'+R2')/2] 大概处于哪个数量级?能做到1/1000的量级吗?
2。假设不考虑温度和电压变化,电阻的匹配精度、绝对误差、相对误差、比值相对误差等概念如何定义呢?
2。假设不考虑温度和电压变化,电阻的匹配精度、绝对误差、相对误差、比值相对误差等概念如何定义呢?
Let Y = 2(R1'-R2')/(R1'+R2')
dY/dR1' = 4R2'/(R1'+R2')^2
dY/dR2'= -4R1'/(R1'+R2')^2
Thus, if R1' prefectly matches R2' and R1'=R2', there is no deviation in Y.
典型的工艺厂家,可以做到哪个数量级呢?
<0.5%
可以向工厂申请mismatch table.里面会有关于电阻mismatch的测试。那个才是相对来说最可信的。好的fab,相对匹配的确可以达到千分之一的。但是取决于layout电阻的width.
Dont trust the provided document too much. leave enough margin in your design.
申明:网友回复良莠不齐,仅供参考。如需专业解答,请学习本站推出的微波射频专业培训课程。
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