我跑的平板散射例子，如何分析散射场呢？请赐教

用feko的例子算的平板散射，如何分析电磁后向散射的强弱和主导因素呢，请赐教
1 设置
平面波，方向沿-z轴，电场极化方向为-x轴

2 坡印亭矢量分布

3 电场分布，磁场分布

4 对称面 坡印亭矢量和电厂分布

坡印亭矢量

电场分布

后向散射需要求解电场时候设置只计算入射方向
从二维曲线中选择RCS就可以看到RCS大小了。
具体的影响因素得自己分析了。

磁场分布
3 平板被激励出来的表面电流和电荷分布图

表面电流

 
表面电荷
如何根据这些分析平板的电磁散射呢? 这些分布都不是instantaneous的，选取了instantaneous后，wt=0-360度变化，这些值也实时的更据入射电磁场的wt变化，分布更是一会高一会低。
坡印亭矢量的大小是否能直接对等与后向散射的强度呢?我感觉它是描述电磁场功率的量，RCS又是这样定义的，所以是否可以通过坡印亭矢量来分析散射问题。
至于电场和磁场的强度分布以及表面电荷就不知道如何分析了，请各位大侠帮助，或者还可以监控什么参数，也请一并指出。 非常感谢。
p.s. 这些都是单独的散射场，我没有出全场的图，觉得入射场叠加上散射场似乎没什么好分析的。

你好，RCS的大小我可以得到，但是不知道如何利用仿真取得的丰富的场数据分析具体的散射源和散射现象。
我觉得通过这些场分布的分析才能体现CEM的优势，帮助我们理解入射波和散射体的相互作用过程，理解每一个散射现象的本质。可是我不是学电磁的，基本知识很缺乏，所以想向各位请教