CST MWS中Probe的问题

正在学习Probe的使用方法，在本站里搜到一个帖子“CST中如何利用探针测量反射系数？”（/read.php?tid=25564&ordertype=desc），从该贴反映的问题来看，Probe似乎记录的是总场，如果我想获得金属物体在平面波激励下的散射远场，则应当做两次仿真，第一次放置金属物体获得Probe所在位置的总场，第二次抽去金属物体获得Probe所在位置的入射场，前者减去后者即得到散射场。不知这样的理解是否正确，请教坛中高手。

 

不懂这个。不过，是一定要用Farfield Probe吗？可以考虑Farfield/RCS monitor吗？

 

时域上的话，应该是可以。
我不懂这个，但是从字面上来看，应该没错。

 

用probe记录的时域信号经傅立叶变换后可以观察到连续宽频段上的散射情形，不知Broad Farfield Monitor是不是有类似的功能。我准备尝试

 

我不清楚你对散射的定义是什么，CST MWS帮助文件对宽带远场监视器的解释：
Broadband: If a farfield monitor was selected in the type frame a broadband farfield can be calculated during the transient solver run. The broadband farfield monitor is based on an expansion of the farfield in terms of spherical waves. The origin of the expansion is the center of the bounding box. It allows to obtain the farfield at any frequency in the specified range as well as at any time of the simulation. Frequency domain and time domain results can be accessed by selecting plots of a broadband farfield monitor and by the plot properties dialog.

 

我说的散射就是矩量法意义上的散射场。看来broadband monitor很有用，我后面会将broadband monitor和probe的结果进行比较，发上来大家讨论

 

经过简单的摸索，可以确定CST2009的远场probe记录的是散射场（外来入射波照射下）。和farfield monitor、broadband farfield monitor相比， farfield probe可以很方便的观察某个方向上散射场或RCS的频响曲线，后者则更适合用来观察某些离散频点上的全方位散射场或RCS。当然如果仿真前设置了broadband farfield monitor，仿真后原则上可以提取出任意频点（在仿真频段内）上的散射场，但我在CST的后处理功能里没有找到自动完成这一任务的操作，因而只能手工提取，比较麻烦。
下面是一个比较broadband farfield monitor和farfield probe的例子，该例子是在CST2009自带的例子ExamplesMWSTransientRCSPEC Spheresphere.cst基础上稍作修改而成，模型： 。仿真中，平面波沿z轴负方向传播激励一个PEC球（半径1厘米），平面波电场沿y方向。将仿真所得broadband farfield各个频点上的后向散射场手工提取后作于下图，同一张图里还给出了farfield probe的频响曲线，可以看到两者比较吻合。注， farfield probe的位置在+z轴上距离PEC球心6厘米。



另：CST的近场probe是否也是记录散射场还有待验证。

 

不懂散射理论，友情纯顶……。

 

你的BroadBand farfield monitor是用macros定义的吗？如果是macros定义的话，你说的那个
仿真后原则上可以提取出任意频点（在仿真频段内）上的散射场
理论上是能出来的

 

我的BroadBand farfield monitor是在仿真前导航树中的Field Monitors项里预定义的，用macro定义farfield monitor等同于手动定义farfield monitor。

申明：网友回复良莠不齐，仅供参考。如需专业解答，请学习易迪拓培训专家讲授的CST视频培训教程。